寶寶通常會在6到8個月大開始長出第一顆牙，美國兒童牙科醫學會建議：在寶寶長出第一顆牙後到一歲之間就應該到兒童牙科做第一次的口腔檢查，除了口腔檢查之外，牙科醫師也可以提供適當的口腔潔牙衛教，評估氟化物的使用。
妥善使用氟化物．降低齲齒發生率
根據中華民國兒童牙科醫學會的建議：在牙醫師的指示下，使用氟化物可以達到最安全有效的齲齒預防效果，安全使用的重點就是在安全的劑量範圍內使用，達到最好的預防齲齒效用。齲齒的形成有四大因素：牙齒、造成齲齒的細菌、食物以及時間。細菌分解食物產生酸性代謝產物，侵蝕牙齒使牙齒的齒質去礦化，經過長時間作用造成齲齒產生。
根據研究，在牙齒的硬組織上，適當劑量的氟化物可以減少牙齒的去礦化破壞，同時促進齒質的再礦化修復作用，並可增強牙齒抵抗酸蝕的能力，還能作用在口腔致齲細菌上抑制細菌的代謝作用。因此，妥善的使用氟化物，大約可降低牙齒平滑面20～40%的齲齒發生率。
認識氟化物
臨床應用上可分成口腔內牙齒的局部使用以及全身系統性的使用。含氟牙膏、含氟漱口水、牙醫使用之專業氟膠、氟漆等都是局部的使用。而經口攝入的飲水加氟、氟錠則是全身性的投予，其可增加血漿中氟離子的濃度，對未萌發出的牙齒表面也可達到加強礦化的作用。
全身性使用的氟化物
主要有兩種形式：飲水加氟、氟錠。
飲水加氟：社區飲水加氟，是能夠最平均且最有效益的讓每個人都接受到氟化物的方法。美國在1940年代就將飲水加氟引進社區使用，飲水加氟的氟離子濃度在0.7ppm，能夠有效降低齲齒發生率。台灣曾在1971年到1984年在中興新村實施飲水加氟措施，但最終在反對之下而終止。
氟錠：氟錠是另外一種全身性氟化物投予的方式。在居住地區飲用水中含氟量是小於0.3ppm的居民，建議從小朋友6個月以上就可開始氟錠的攝取。
台灣就是屬於飲用水中含氟量不到0.3ppm的地區，因此，6個月大到3歲的兒童，建議每天可以攝取0.25毫克的氟錠。3到6歲的兒童則建議每日可攝取0.5毫克，也就是0.25毫克氟錠兩顆。6歲以上的兒童建議每天可攝取1毫克的氟錠。（目前市售服定僅有兩種劑量，0.25毫克以及1毫克）。
氟錠建議的攝取方式，通常是晚上睡前潔牙完成後使用，可用口含融化的方式，或輕輕嚼碎慢慢吞入，增加氟錠在口腔內停留的時間，使其可以同時達到局部及全身性的防齲最佳效益，並建議至少與牛奶間隔半小時以上服用，避免牛奶中的鈣離子影響氟化物的吸收。
局部性使用的氟化物
分為居家使用的含氟牙膏、含氟漱口水，以及牙科醫師專業使用的高濃度氟漆、氟膠。
含氟牙膏：居家使用含氟牙膏是我們最常使用的氟化物，其特性為低劑量高頻率的使用，可有效降低齲齒發生。該如何選擇含氟牙膏呢？根據目前臨床試驗實證醫學的證據支持，應該要使用含氟量在1,000ppm以上的含氟牙膏，才能有效地預防齲齒，而中華民國兒童牙科醫學會也建議使用1,000ppm的含氟牙膏潔牙，一天至少使用兩次。使用含氟牙膏刷完牙後，可不用清水漱口，這樣能保持口腔內氟的濃度，將泡泡儘量吐掉即可。
對於3歲以下不會漱口吐泡沫的幼兒，每次使用的牙膏用量只要「米粒」大小即可，父母在幫幼兒潔牙時，同時準備一條濕的紗布巾，邊刷邊將幼兒口內多餘的泡沫擦除。對於3歲以上的兒童，牙膏用量可以增加到一顆「豌豆」的大小，並應該有大人在旁監督，一般希望孩童在8歲以前，家長都需要在旁監督或協助孩童使用含氟牙膏刷牙，這樣能確認孩童有確實刷到每顆牙齒，刷牙時間足夠，也可確定孩童沒有吞下過多的牙膏。
另外，常有家長詢問如果使用可吃的牙膏呢？由於這類牙膏通常不含氟，因此就不特別建議使用了。而可能造成急性氟中毒的劑量為5mg/kg，以10公斤兒童為例，大約是50克1,000ppm含氟牙膏（約1/4條家庭號牙膏）。
含氟漱口水：含氟漱口水主要成分是氟化鈉，一般分成兩種濃度，每天使用的含氟漱口水是0.5%，而每週使用的含氟漱口水濃度是2%氟化鈉。自民國88年起開始推廣，在台灣國小學童皆有實施含氟漱口水防齲計畫，在師長的監督下，每週一次使用含氟漱口水10c.c.漱口1分鐘，且漱口後30分鐘內不可飲食及用清水漱口。
氟膠：大多數是1.23%的酸化磷酸氟（APF; 12300ppm F），使用方法是以氟托盛載約5ml的氟膠放入口內，塗布在所有的牙齒上，並在口內停留4分鐘後，再將多餘的氟膠吐出。
氟漆：大多數的氟漆成分為5%的氟化鈉（NaF; 22600ppm F），每次使用量只需0.5ml，將牙齒初步擦乾後，以小毛刷均勻塗布於每顆牙齒的每個表面，當氟漆遇到口水後，會在牙齒表面上形成一層薄膜，可讓氟漆附著於牙齒上達到更長的時間，以達到更好的防齲效果。
提醒父母，正確的潔牙方式加上正確的衛教觀念，再搭配上氟化物的應用，才能夠最有效的預防齲齒。
戴劭妤醫師
現任／林口長庚醫院兒童牙科主治醫師
經歷／林口長庚醫院兒童牙科住院醫師．林口長庚醫院牙科部住院醫師
學歷／臺北醫學大學牙醫學士．長庚大學顱顏口腔研究所碩士
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