封測大廠日月光投控 (3711-TW) 今 (16) 日宣布，攜手 Deca、西門子數位工業軟體公司，共同推出全新的 APDK(Adaptive Patterning Design Kit，自適應圖案設計套件) 解決方案。
日月光指出，透過與半導體封裝公司 Deca 及設計驗證行業黃金標準西門子 Calibre 平台緊密合作，使客戶全面瞭解自適應圖案的強大功能，在電性效能突破的同時，確保實現先進異質整合設計的製造能力。
日月光表示，目前已在 APDK 取得成果，將全套自動化、設計規則、設計規則檢查 (DRC) 平台和模板整合在一起，提供一元化設計流程。從模板庫開始，設計人員初始的佈局到自適應圖案模擬至最後使用西門子 Calibre 軟件通過設計認證，皆可獲得廣泛的自動化指導。
西門子數位工業軟體公司通過 OSAT 聯盟計畫加入 Deca 的 AP Live 網絡。AP Live 網絡包括電子設計自動化 (EDA) 供應商和原始設備製造商 (OEMs)，使供應鏈生態系統不斷增長。透過 Deca 的 AP Studio 模組將自適應圖案設計流程與西門子 EDA 產品整合在一起，提供具備驗證平台的整合設計解決方案。
日月光市場與技術推廣高級副總裁 Rich Rice 表示，日月光通過提供可同時處理單一晶片及異質整合參數的可靠解決方案協助客戶實現自動化設計的願景。通過量產 M 系列技術產品，不斷提升產品品質，更進一步鞏固在扇出型封裝技術 (Fan Out) 的領先地位。
Deca 首席技術官 Craig Bishop 指出，在半導體行業中，如 M 系列先進封裝解決方案是摩爾定律持續發展的關鍵。通過自適應圖案 (Adaptive Patterning)，解決了關鍵的製造挑戰。隨著第一個 APDK 的發佈，又克服了複雜的設計。相信 APDK 可以幫助設計師利用完整的解決方案，快速設計新產品並對最終結果充滿信心。
西門子數位工業軟體公司 Calibre 設計解決方案產品管理副總裁 Michael Buehler Garcia 表示，多年來，Caliber 軟件作為驗證簽核平台 (Verification Sign-off Platform) 深受業界信任，將 Calibre eqDRC 和可編程的邊緣移動功能整合到 APDK 框架中，有助於實現包含自適應圖案 (Adaptive Patterning) 設計流程在內的 Deca AP Studio 模組自動化與驗證，為設計人員建立一次就能成功的信心。
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