โปรดอัพเดตเบราว์เซอร์

เบราว์เซอร์ที่คุณใช้เป็นเวอร์ชันเก่าซึ่งไม่สามารถใช้บริการของเราได้ เราขอแนะนำให้อัพเดตเบราว์เซอร์เพื่อการใช้งานที่ดีที่สุด

ขาดแคลนหนัก ASML เร่งสร้าง EUV สุดยอดเครื่องจักรผลิตชิป AI

Techhub

อัพเดต 06 พ.ค. เวลา 08.49 น. • เผยแพร่ 06 พ.ค. เวลา 08.49 น.

[ความต้องการสูง] ว่าด้วย EUV หรือ Extreme Ultraviolet Lithography เป็นสุดยอดเครื่องจักร ที่กำเนิดอุปกรณ์พกพาหรือชิปประมวลผลมาแล้วนักต่อนัก โดยมี TSMC เป็นลูกค้ารายใหญ่ที่สุด และเครื่องหนึ่งก็มีมูลค่ากว่าหมื่นล้านบาท แต่มีรายงายล่าสุดเผย ASML เตรียมผลิตเครื่องดังกล่าวมากถึง 60 เครื่องภายในปีนี้ สะท้อนความต้องการชิป AI อย่างถึงที่สุดในยุคปัจจุบัน

ทุกวันนี้บริษัทอย่าง Nvidia , TSMC , Samsung และ Intel ต่างต้องการสร้างชิปที่เล็กลงและแรงขึ้นเพื่อรองรับโมเดล AI ขนาดใหญ่ แต่การจะทำเช่นนั้นได้ก็ต้องมีเครื่อง EUV โดนล่าลุดบริษัทสัญชาติเนเธอร์แลนด์อย่าง ASML ที่ต้องวางแผนสร้างเครื่อง EUV อย่างน้อยถึง 60 เครื่องในปีนี้

เพื่อตอบสนองความต้องการชิป AI ที่พุ่งสูงขึ้น โดยตัวเลขดังกล่าวสูงกว่ายอดขายปี 2025 ถึง 36% ถือเป็นกำลังขยายการผลิตในอัตราที่หาได้ยากในอุตสาหกรรมอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ เนื่องจากความต้องการโครงสร้างพื้นฐาน AI ที่เร่งตัวขึ้นตามการลงทุนทั่วโลก

สำหรับการเร่งสร้างเครื่อง EUV นั้น ก็จำเป็นต้องปรับทั้งปรุงโรงงาน ขยายความจุคลีนรูม และทุ่มงบประมาณลงทุนหลายพันล้านดอลลาร์ฯ เพื่อให้บรรลุเป้าหมายอย่างน้อย 60 เครื่องในปีนี้ ซึ่งเพิ่มขึ้นอย่างมากจากปี 2025 และตั้งเป้าจะเพิ่มกำลังการผลิตเป็นอย่างน้อย 80 เครื่องต่อปีในระยะถัดไป ในขณะเดียวกัน บริษัทกำลังพยายามปรับปรุงประสิทธิภาพการทำงาน รวมถึงการอัปเกรดเครื่องจักรให้สามารถประมวลผลแผ่นเวเฟอร์ได้มากขึ้นต่อชั่วโมงด้วย

อย่างไรก็ตาม ASML กำลังเผชิญกับข้อจำกัดในการผลิตเครื่องจักรที่ซับซ้อนที่สุดในโลกเครื่องหนึ่ง เครื่อง EUV แต่ละเครื่องใช้เวลาหลายเดือนในการประกอบและต้องพึ่งพาส่วนประกอบจากเครือข่ายซัพพลายเออร์ขนาดใหญ่ เครื่องจักรเหล่านี้ใช้เลเซอร์เปลี่ยนดีบุกหลอมเหลวให้เป็นแสง EUV เพื่อพิมพ์ลวดลายวงจรขนาดจิ๋วลงบนซิลิคอนเวเฟอร์ แม้แต่ฝุ่นละอองเพียงเล็กน้อยก็สามารถขัดขวางกระบวนการผลิตได้ ซึ่งเป็นข้อจำกัดในการเร่งขยายกำลังการผลิต

เพื่อบรรเทาข้อจำกัดเหล่านี้ ASML ได้ขยายพื้นที่คลีนรูมในสหรัฐฯ เยอรมนี และเกาหลีใต้ และมีแผนจะเริ่มก่อสร้างวิทยาเขตใหม่ใกล้กับสำนักงานใหญ่ในเนเธอร์แลนด์ แต่แน่นอนว่างบประมาณการใช้จ่ายก็เพิ่มขึ้นเช่นกัน โดย ASML คาดว่าจะลงทุนประมาณ 2.2 พันล้านดอลลาร์ในปีนี้ นอกจากนี้ยังมีการใช้จ่ายมากขึ้นในการจ้างงานและฝึกอบรมวิศวกร แม้ว่าปัญหาการขาดแคลนแรงงานจะยังคงเป็นความท้าทายในเนเธอร์แลนด์ก็ตาม

ASML ยังทำงานใกล้ชิดกับซัพพลายเออร์มากขึ้น โดยผู้บริหารระดับสูงจะเข้ามาดูแลการประสานงานกับซัพพลายเออร์โดยตรงเพื่อป้องกันความล่าช้า เนื่องจากหากขาดส่วนประกอบเพียงชิ้นเดียว การประกอบขั้นสุดท้ายก็จะไม่สามารถดำเนินต่อไปได้

ในขณะที่ความต้องการเครื่อง EUV มาตรฐานยังคงแข็งแกร่ง แต่การยอมรับระบบเจเนอเรชันถัดไปอย่าง High-NA EUV ยังคงมีความไม่แน่นอน เครื่องจักรขั้นสูงเหล่านี้ให้ความละเอียดและประสิทธิภาพที่สูงกว่าแต่มาพร้อมกับต้นทุนที่สูงขึ้นมาก ทำให้ผู้ผลิตชิปบางรายชะลอการเปลี่ยนผ่านและหันไปเน้นการดึงประสิทธิภาพสูงสุดจากแพลตฟอร์ม EUV เดิมที่มีอยู่แทน เพื่อตอบสนองเรื่องนี้ ASML จึงเสนอการอัปเกรดระบบที่ติดตั้งไปแล้วเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพและผลผลิต

ในระยะยาว ASML กำลังพัฒนาแหล่งกำเนิดแสงที่แรงขึ้นเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการทำงาน ซึ่งการปรับปรุงเหล่านี้จะใช้เวลาหลายปีกว่าจะเริ่มใช้งานได้อย่างเต็มรูปแบบ แต่ถือเป็นกุญแจสำคัญเมื่อการออกแบบชิปยังคงเล็กลงเรื่อย ๆ เช่น 2 นาโนเมตรในปัจจุบัน

ที่มา : Techspot


⭐️Techhub รวม How To , Tips เทคนิค อัปเดตทุกวัน

กดดูแบบเต็มๆ ที่ www.techhub.in.th

ดูข่าวต้นฉบับ
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...