โปรดอัพเดตเบราว์เซอร์

เบราว์เซอร์ที่คุณใช้เป็นเวอร์ชันเก่าซึ่งไม่สามารถใช้บริการของเราได้ เราขอแนะนำให้อัพเดตเบราว์เซอร์เพื่อการใช้งานที่ดีที่สุด

หุ้น การลงทุน

“จีน” ขยับเข้าใกล้หัวใจเทคโนโลยีโลก สร้างต้นแบบเครื่อง EUV สำเร็จ เร็วกว่าที่ตะวันตกคาด

การเงินธนาคาร

อัพเดต 19 ธ.ค. 2568 เวลา 11.03 น. • เผยแพร่ 19 ธ.ค. 2568 เวลา 04.03 น.

"จีน" ขยับเข้าใกล้หัวใจเทคโนโลยีโลก สร้างต้นแบบเครื่อง EUV สำเร็จในห้องแล็บความปลอดภัยสูงที่เซินเจิ้น ท่ามกลางสงครามเทคโนโลยีและมาตรการคว่ำบาตรจากสหรัฐ

วันที่ 19 ธันวาคม 2568 เวลา 10.19 น. สำนักข่าวรอยเตอร์รายงานว่า ในห้องปฏิบัติการรักษาความปลอดภัยสูงแห่งหนึ่งในเมืองเซินเจิ้น นักวิทยาศาสตร์จีนได้สร้างสิ่งที่สหรัฐอเมริกาพยายามสกัดกั้นมานานหลายปี นั่นคือ ต้นแบบเครื่องผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูงระดับ Extreme Ultraviolet Lithography (EUV) เทคโนโลยีหัวใจสำคัญของชิปที่ใช้ในปัญญาประดิษฐ์ สมาร์ตโฟน และระบบอาวุธยุคใหม่ ซึ่งเป็นฐานอำนาจทางทหารและเศรษฐกิจของโลกตะวันตก

แหล่งข่าวหลายรายเปิดเผยกับสำนักข่าวรอยเตอร์ว่า ต้นแบบเครื่อง EUV ของจีนแล้วเสร็จตั้งแต่ต้นปี 2568 และอยู่ระหว่างการทดสอบ โดยมีขนาดใหญ่จนกินพื้นที่เกือบทั้งโรงงาน และถูกพัฒนาโดยทีมวิศวกรที่มีอดีตเป็นพนักงานของ ASML บริษัทเทคโนโลยีจากเนเธอร์แลนด์ ซึ่งเป็นผู้ผลิตเครื่อง EUV รายเดียวของโลกในปัจจุบัน

EUV หัวใจของสงครามเทคโนโลยี

เครื่อง EUV ถือเป็นแก่นกลางของสงครามเทคโนโลยีระหว่างจีนกับตะวันตก เนื่องจากเป็นเครื่องมือที่ใช้แสงอัลตราไวโอเลตความยาวคลื่นสั้นมากในการกัดลวดลายวงจรบนแผ่นซิลิคอน ให้เล็กกว่าความกว้างเส้นผมมนุษย์นับพันเท่า ยิ่งวงจรเล็ก ชิปก็ยิ่งทรงพลัง

ปัจจุบันเทคโนโลยีนี้ยังคงเป็นสิ่งที่โลกตะวันตกผูกขาด โดย ASML เป็นผู้ครองตลาดเพียงรายเดียว เครื่องหนึ่งมีราคาสูงถึงราว 250 ล้านดอลลาร์สหรัฐ และเป็นหัวใจของการผลิตชิประดับแนวหน้าโดยบริษัทอย่าง TSMC, Intel และ Samsung สำหรับลูกค้าอย่าง Nvidia และ AMD

แหล่งข่าวระบุว่า เครื่อง EUV ของจีนสามารถสร้างแสง EUV ได้จริงแล้ว แต่ยังไม่สามารถผลิตชิปที่ใช้งานได้ อย่างไรก็ดี การมีต้นแบบที่ทำงานได้ ถือเป็นก้าวกระโดดครั้งสำคัญ ซึ่งสวนทางกับคำกล่าวของซีอีโอ ASML ที่เคยระบุเมื่อเดือนเมษายนว่า จีนยังต้องใช้เวลาอีกหลายปีกว่าจะพัฒนาเทคโนโลยีนี้ได้

แม้จีนยังเผชิญอุปสรรคทางเทคนิคจำนวนมาก โดยเฉพาะระบบเลนส์และกระจกความแม่นยำสูงซึ่งเป็นจุดแข็งของซัพพลายเออร์ตะวันตกอย่าง Carl Zeiss แต่แหล่งข่าวระบุว่า การเข้าถึงชิ้นส่วนจากเครื่อง ASML รุ่นเก่าที่ถูกขายในตลาดมือสอง ทำให้จีนสามารถสร้างต้นแบบขึ้นมาได้

รัฐบาลจีนตั้งเป้าให้เครื่องดังกล่าวสามารถผลิตชิปได้จริงภายในปี 2571 แต่ผู้เกี่ยวข้องกับโครงการมองว่าเป้าหมายที่เป็นจริงมากกว่าคือราวปี 2573 ซึ่งยังถือว่าเร็วกว่าเดิมหลายปี เมื่อเทียบกับการประเมินของนักวิเคราะห์ที่เคยมองว่าจีนต้องใช้เวลาเป็นทศวรรษในการไล่ทันตะวันตก

โครงการแมนฮัตตันฉบับจีน

โครงการ EUV ของจีนถือเป็นผลลัพธ์ของแผนพึ่งพาตนเองด้านเซมิคอนดักเตอร์ที่รัฐบาลจีนผลักดันต่อเนื่องมากว่า 6 ปี และเป็นหนึ่งในยุทธศาสตร์สำคัญของประธานาธิบดีสี จิ้นผิง โดยโครงการนี้ถูกดำเนินการอย่างลับสุดยอด ภายใต้การดูแลของคณะกรรมาธิการวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีส่วนกลางของพรรคคอมมิวนิสต์

แหล่งข่าวเปรียบเทียบว่า โครงการนี้เปรียบเสมือน Manhattan Project ของจีน โดยมี Huawei เป็นแกนกลางในการประสานเครือข่ายบริษัทและสถาบันวิจัยของรัฐทั่วประเทศ รวมวิศวกรหลายพันคน เป้าหมายสูงสุดคือการสร้างชิปขั้นสูงด้วยเครื่องจักรที่ผลิตในจีนทั้งหมดและตัดสหรัฐออกจากห่วงโซ่อุปทานอย่างสิ้นเชิง

หนึ่งในปัจจัยสำคัญที่ทำให้จีนก้าวหน้าอย่างรวดเร็ว คือการดึงตัวอดีตวิศวกร ASML ที่เกษียณหรือออกจากงานแล้วเข้าร่วมโครงการ บางรายได้รับโบนัสเซ็นสัญญาหลายล้านหยวน พร้อมสวัสดิการด้านที่อยู่อาศัย

เพื่อรักษาความลับระดับความมั่นคงแห่งชาติ วิศวกรบางคนได้รับบัตรประจำตัวปลอม ใช้ชื่อปลอม และไม่สามารถเปิดเผยตัวตนแม้แต่กับเพื่อนร่วมงานในพื้นที่เดียวกัน ทั้งยังถูกห้ามไม่ให้ติดต่อโลกภายนอก

กฎหมายความเป็นส่วนตัวของยุโรปทำให้ ASML มีข้อจำกัดในการติดตามอดีตพนักงาน แม้บริษัทจะเคยชนะคดีความลับทางการค้าในอดีต แต่การบังคับใช้ข้ามพรมแดนยังทำได้ยาก

ข้อจำกัดตะวันตก กับแรงผลักจีน

ตั้งแต่ปี 2561 สหรัฐกดดันเนเธอร์แลนด์ไม่ให้ ASML ขายเครื่อง EUV ให้จีน และขยายมาตรการควบคุมการส่งออกในปี 2565 เพื่อกันจีนออกจากเทคโนโลยีชิประดับสูง แม้ข้อจำกัดเหล่านี้จะชะลอความก้าวหน้าของจีนและกระทบ Huawei อย่างรุนแรงในช่วงแรก แต่กลับกลายเป็นแรงผลักให้จีนเร่งพัฒนาเทคโนโลยีภายในประเทศ

รายงานข่าวระบุว่า จีนจัดหาอุปกรณ์จากตลาดมือสอง ใช้บริษัทตัวกลางปิดบังผู้ซื้อ และดึงชิ้นส่วนจากซัพพลายเออร์ในญี่ปุ่นและยุโรปมาใช้ในต้นแบบ EUV

นักวิเคราะห์ในอุตสาหกรรมมองว่าหากจีนสามารถทำให้แหล่งกำเนิดแสง EUV มีพลังเพียงพอ เสถียร และควบคุมการปนเปื้อนได้ ก็ถือว่าบรรลุความก้าวหน้าเชิงสาระ แม้ยังต้องใช้เวลาอีกหลายปี

แต่สิ่งที่ชัดเจนแล้วคือ กำแพงเทคโนโลยีที่ตะวันตกพยายามสร้าง กำลังถูกทดสอบอย่างจริงจัง และหากจีนประสบความสำเร็จ โลกอาจกำลังก้าวเข้าสู่ยุคใหม่ของการแข่งขันด้านชิป ซึ่งไม่ใช่แค่เรื่องเศรษฐกิจ แต่เป็นเรื่องของอำนาจ ความมั่นคง และสมดุลทางภูมิรัฐศาสตร์ในศตวรรษที่ 21

อ้างอิง : www.reuters.com

ดูข่าวต้นฉบับ
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...
Loading...