จีนรุกคืบสร้างต้นแบบเครื่องผลิตชิป EUV สำเร็จ – เร่งเครื่องสู่อิสรภาพด้านชิป AI

จีนรุกคืบสร้างต้นแบบเครื่องผลิตชิป EUV สำเร็จ เร่งเครื่องสู่อิสรภาพด้านชิป AI

สำนักข่าวอีไฟแนนซ์ไทย- -18 ธ.ค. 68 17:16 น.

นักวิทยาศาสตร์ของจีนมีความคืบหน้าในการสร้างเครื่องจักรต้นแบบที่ผลิตชิปล้ำสมัย ซึ่งเป็นสิ่งที่รัฐบาลวอชิงตันพยายามขัดขวางมานานหลายปีได้เป็นผลสำเร็จ ภายใต้โครงกาลับสุดยอดเทียบเทากับ Manhattan Project ในอดีต เครื่องจักรดังกล่าวเป็นจุดเริ่มต้นของการผลิตชิป ที่เป็นขุมพลังของปัญญาประดิษฐ์ (AI), สมาร์ทโฟน และอาวุธยุทโธปกรณ์ อันเป็นหัวใจสำคัญในการแผ่ขยายอิทธิพลทางทหารของตะวันตก

รายงานจากรอยเตอร์ระบุว่า โครงการดังกล่าวตั้งอยู่ในห้องปฏิบัติการที่มีมาตรการรักษาความปลอดภัยขั้นสูงในเมืองเซินเจิ้น เครื่องต้นแบบดังกล่าวกินพื้นที่เกือบทั้งชั้นของโรงงาน สร้างเสร็จสมบูรณ์เมื่อช่วงต้นปีนี้ ขณะนี้อยู่ระหว่างการทดสอบ สร้างขึ้นโดยทีมอดีตวิศวกรจากบริษัท ASML ยักษ์ใหญ่ด้านเซมิคอนดักเตอร์ของเนเธอร์แลนด์ ด้วยวิธีวิศวกรรมแบบย้อนกลับ (Reverse-engineering) จากการถอดแบบเครื่องพิมพ์ Extreme Ultraviolet Lithography (EUV) ซึ่งใช้เทคโนโลยีการพิมพ์วงจรบนแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนที่ใช้แสงยูวีที่มีความยาวคลื่นสั้นมากของ ASML ทีละส่วน ซึ่งเครื่องจักรนี้เปรียบเสมือนหัวใจสำคัญของสงครามเทคโนโลยี ซึ่งปัจจุบันเป็นความสามารถที่ผูกขาดอยู่ในฝั่งโลกตะวันตก

แหล่งข่าวระบุว่า เครื่องจักรของจีนสามารถเดินเครื่องได้แล้วและประสบความสำเร็จในการสร้างเทคโนโลยี EUV เพียงแต่ยังไม่มีการผลิตชิปที่ใช้งานได้จริงออกมา

ประเมินความเร็วในการพัฒนา

เมื่อเดือนเม.ย.ที่ผ่านมา คริสตอฟ ฟูเกต์ (Christophe Fouquet) ซีอีโอของ ASML คาดว่าจีนจะต้องใช้เวลาอีกหลายปีกว่าจะพัฒนาเทคโนโลยีดังกล่าว แต่รายงานเครื่องต้นแบบนี้ ซึ่งรอยเตอร์รายงานเป็นแห่งแรกบ่งชี้ว่าจีนเริ่มขยับเข้ามาใกล้เป้าหมายที่จะลดการพึ่งพาเซมิคอนดักเตอร์จากตะวันตกเร็วกว่าที่เหล่านักวิเคราะห์ประเมินไว้

แต่ยังมีความท้าทายทางเทคนิคที่สำคัญ โดยเฉพาะการเลียนแบบระบบออปติกที่มีความแม่นยำสูงซึ่งผลิตโดยซัพพลายเออร์จากตะวันตก

แหล่งข่าวสองรายระบุว่า การจัดหาชิ้นส่วนจากเครื่อง ASML รุ่นเก่าในตลาดมือสองช่วยให้จีนสามารถสร้างเครื่องต้นแบบด้วยตนเองได้ โดยรัฐบาลจีนตั้งเป้าที่จะผลิตชิปที่ใช้งานได้จริงจากเครื่องต้นแบบนี้ภายในปี 2028 แต่ผู้ที่ใกล้ชิดกับโครงการนี้มองว่า เป้าหมายในปี 2030 ดูจะเป็นจริงมากกว่า ซึ่งก็ยังเร็วกว่าที่นักวิเคราะห์เคยคาดไว้ว่า จีนจะต้องใช้เวลาเป็นสิบปีกว่าจะตามตะวันตกได้ทัน

ยุทธศาสตร์ระดับชาติและความลับขั้นสุดยอด

ความสำเร็จครั้งนี้เป็นจุดสูงสุดของโครงการซึ่งรัฐบาลริเริ่มมานาน 6 ปี เพื่อบรรลุเป้าหมายการพึ่งพาตนเองด้านเซมิคอนดักเตอร์ หนึ่งในวาระสำคัญที่ผู้นำจีนต้องการผลักดัน แม้จีนจะประกาศเป้าหมายด้านเซมิคอนดักเตอร์ให้เป็นที่รับรู้ในวงกว้าง แต่โครงการสร้างเครื่องจักร EUV ต้นแบบในเซินเจิ้นกลับถูกดำเนินการอย่างลับ ๆ

สื่อของรัฐบาลจีนระบุว่า โครงการนี้มี ติง เซวียเสียง (Ding Xuexiang) หัวหน้าคณะกรรมาธิการด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีของพรรคคอมมิวนิสต์ คนสนิทของสี จิ้นผิงเป็นหัวเรือใหญ่

แหล่งข่าวอีกกลุ่มยังระบุว่า Huawei บริษัทอิเล็กทรอนิกส์ยักษ์ใหญ่ของจีน มีบทบาทสำคัญในการประสานงานเครือข่ายบริษัทและสถาบันวิจัยของรัฐทั่วประเทศ โดยดึงวิศวกรหลายพันคนเข้ามาร่วมในโปรเจ็กต์นี้ ซึ่งเปรียบได้กับ "โครงการแมนฮัตตัน" เวอร์ชันจีน

"เป้าหมายของจีนคือ สามารถผลิตชิปขั้นสูงด้วยเครื่องจักรที่จีนผลิตเองทั้งหมดในประเทศ จีนต้องการเขี่ยสหรัฐฯ ออกจากห่วงโซ่อุปทานแบบ 100%"

การผูกขาดของ ASML และมาตรการสกัดกั้นของสหรัฐฯ

ปัจจุบัน ASML ในเนเธอร์แลนด์ ยังเป็นเพียงบริษัทเดียวที่เชี่ยวชาญเทคโนโลยี EUV เครื่องจักรของบริษัทซึ่งมีราคาราว 250 ล้านดอลลาร์ เป็นสิ่งที่ขาดไม่ได้ในการผลิตชิปที่ล้ำสมัย

ASML สร้างเครื่องต้นแบบ EUV เครื่องแรกสำเร็จในปี 2001 ซึ่งต้องใช้เวลาเกือบ 20 ปี และลงทุนด้านการวิจัยและพัฒนาไปหลายพันล้านยูโร กว่าจะผลิตชิปในเชิงพาณิชย์ชุดแรกได้ในปี 2019 ซึ่งบริษัทเผยกับรอยเตอร์ว่า "เป็นเรื่องปกติที่บริษัทต่าง ๆ ต้องการเลียนแบบเทคโนโลยีของเรา แต่การทำเช่นนั้นไม่ใช่เรื่องง่ายเลย"

ปัจจุบันระบบ EUV ของ ASML จำหน่ายให้เฉพาะพันธมิตรของสหรัฐฯ อาทิ ไต้หวัน เกาหลีใต้ และญี่ปุ่น เท่านั้น

ย้อนไปในปี 2018 สหรัฐฯ เริ่มกดดันเนเธอร์แลนด์ให้ระงับการขายระบบ EUV ของ ASML ให้กับจีน ต่อมาในปี 2022 รัฐบาลของโจ ไบเดน ได้เพิ่มความเข้มงวดขึ้นอีก ด้วยการบังคับใช้มาตรการควบคุมการส่งออกในวงกว้าง เพื่อไม่ให้จีนเข้าถึงเทคโนโลยีเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง โดย ASML ยืนยันว่าไม่เคยขายระบบ EUV ให้กับลูกค้ารายใดในจีนเลย

ทางด้านกระทรวงกลาโหมเนเธอร์แลนด์กล่าวว่า เนเธอร์แลนด์กำลังพัฒนานโยบายที่กำหนดให้ สถาบันที่เกี่ยวข้องด้านองค์ความรู้ ต้องคัดกรองบุคลากร เพื่อป้องกันไม่ให้บุคคลที่ประสงค์ร้ายหรือมีความเสี่ยงที่จะถูกบีบบังคับ สามารถเข้าถึงเทคโนโลยีที่อ่อนไหวได้

เบื้องหลังการดึงตัวบุคลากร

วิศวกรชาวจีนอาวุโสรายหนึ่งที่เคยทำงานกับ ASML ถูกดึงตัวมาร่วมโครงการนี้ เผยว่ารู้สึกประหลาดใจที่เงินโบนัสก้อนแรกที่ได้รับ มาพร้อมกับบัตรประจำตัวที่ออกให้โดยใช้ชื่อปลอม

เมื่อเข้าไปข้างใน เขาจำอดีตเพื่อนร่วมงานจาก ASML คนอื่นๆ ได้ ซึ่งก็ทำงานโดยใช้ชื่อปลอมเช่นกัน และเขาได้รับคำแนะนำให้ใช้ชื่อปลอมในที่ทำงานเพื่อรักษาความลับ ข้อมูลดังกล่วตรงกับที่แหล่งข่าวอีกรายยืนยันว่า พนักงานที่ถูกจ้างมาจะได้รับบัตรเป็นชื่อปลอม เพื่อปกปิดตัวตนจากพนักงานคนอื่น ๆ ภายในโครงการที่มีความปลอดภัยขั้นสูง เนื่องจากโครงการนี้เข้าข่ายความมั่นคงของชาติ จึงห้ามไม่ให้บุคคลภายนอกรู้ว่า พวกเขากำลังสร้างอะไร หรือรู้ว่าพวกเขาอยู่ที่นั่นเลยด้วยซ้ำ

ทั้งนี้ ทีมงานในโครงการประกอบด้วยอดีตวิศวกรและนักวิทยาศาสตร์ชาวจีนที่เพิ่งเกษียณจาก ASML ซึ่งเป็นกลุ่มเป้าหมายหลักในการจ้างงาน ด้วยความรู้ทางเทคนิคที่มี

พนักงาน ASML สัญชาติจีนสองรายในเนเธอร์แลนด์เผยกับรอยเตอร์ว่า พวกเขาได้รับการทาบทามจากฝ่ายสรรหาบุคลากรของ Huawei มาตั้งแต่ปี 2020

กฎหมายคุ้มครองข้อมูลส่วนบุคคลของยุโรปทำให้ ASML ติดตามอดีตพนักงานได้จำกัด แม้พนักงานจะลงนามในข้อตกลงห้ามเปิดเผยข้อมูล (NDA) แต่การบังคับใช้กฎหมายข้ามพรมแดนเป็นเรื่องที่ทำได้ยาก

ทั้งนี้ ASML เคยชนะคดีฟ้องร้องอดีตวิศวกรชาวจีนที่ถูกกล่าวหาว่าขโมยความลับทางการค้า เมื่อปี 2019 คิดเป็นมูลค่าฟ้องร้อง 845 ล้านดอลลาร์สหรัฐ แต่จำเลยได้ยื่นล้มละลายและยังคงดำเนินงานในปักกิ่งต่อไปโดยได้รับการสนับสนุนจากรัฐบาลจีน

ASML กล่าวกับรอยเตอร์ว่าบริษัทเฝ้าระวังการปกป้องความลับทางการค้าและข้อมูลที่เป็นความลับอย่างเข้มงวด แม้จะไม่สามารถควบคุมหรือจำกัดได้ว่า อดีตพนักงานจะไปทำงานที่ใดนั้น แต่พนักงานทุกคนมีพันธะตามเงื่อนไขการรักษาความลับในสัญญา และทางบริษัทได้ดำเนินการทางกฎหมายเพื่อตอบโต้การขโมยความลับทางการค้าได้สำเร็จมาแล้ว

ส่องโรงงานผลิต EUV ของจีน

การที่เครื่องต้นแบบของจีนยังตามหลัง ASML นั้น เป็นเพราะปัญหาในการจัดหาระบบออปติกแบบเดียวกับที่มาจากบริษัท Carl Zeiss AG ของเยอรมนี ซึ่งเป็นซัพพลายเออร์หลักของ ASML

ข้อมูลในเว็บไซต์ของ Zeiss เครื่องจักรเหล่านี้จะยิงเลเซอร์ใส่ดีบุกหลอมเหลว 50,000 ครั้งต่อวินาที เพื่อสร้างพลาสมาที่อุณหภูมิ 200,000 องศาเซลเซียส แสงจะถูกรวมเข้าด้วยกันโดยใช้กระจกที่ต้องใช้เวลาผลิตนานหลายเดือน

สถาบันวิจัยชั้นนำของจีนมีบทบาทสำคัญในการพัฒนาส่วนประกอบทดแทนในประเทศ โดยสถาบันทัศนศาสตร์ กลศาสตร์ขั้นสูงและฟิสิกส์แห่งฉางชุน (CIOMP) ประสบความสำเร็จในการรวม EUV เข้ากับระบบออปติกของเครื่องต้นแบบ ทำให้เริ่มเดินเครื่องได้เมื่อต้นปี 2025 แม้ว่าระบบออปติกนี้จะยังต้องปรับปรุงอีกมากก็ตาม

ที่มา Reuters

รายงาน โดย Supak Hopuengju เรียบเรียง โดย Supak Hopuengju
อีเมล์. supak@efinancethai.com
ดูข่าวต้นฉบับ