หัวเว่ยพัฒนาเซมิคอนดักเตอร์รูปแบบใหม่

เหอ ถิงโป ประธานฝ่ายเซมิคอนดักเตอร์ของหัวเว่ย เปิดเผยว่า บริษัทจะสามารถผลิตชิปยุคถัดไปที่มีขนาด 1.4 นาโนเมตรได้ภายในปี 2031 ขณะที่บริษัท ทีเอสเอ็มซี ของไต้หวัน ซึ่งเป็นผู้นำในอุตสาหกรรมนี้ คาดการณ์ไว้ว่าจะสามารถผลิตชิปขนาดเดียวกันนี้ได้ภายในปี 2028 หัวเว่ยชี้ให้เห็นว่า บริษัทอาจสามารถหลีกเลี่ยงความจำเป็นในการใช้เครื่องพิมพ์วงจรด้วยแสงเลเซอร์รังสีอัลตราไวโอเลตเข้มข้น หรือ EUV ซึ่งเป็นอุปกรณ์ที่เคยถูกมองว่า มีความสำคัญอย่างยิ่งต่อการผลิตชิปขนาด 5 นาโนเมตร หรือต่ำกว่านั้นในปริมาณมาก

เหอกล่าวว่า เทคนิคใหม่นี้เกิดขึ้นได้จากการเปลี่ยนมุมมองแนวคิดแบบเดิม ๆ ในประวัติศาสตร์การผลิตชิป โดยอ้างถึงกฎของมัวร์ คือหลักการที่พัฒนาขึ้นโดย กอร์ดอน มัวร์ ผู้ร่วมก่อตั้งบริษัทอินเทล ซึ่งระบุไว้ว่า จำนวนทรานซิสเตอร์ หรือ อุปกรณ์ที่ควบคุมการไหลของกระแสไฟฟ้าบนชิปจะเพิ่มขึ้นเป็นสองเท่าในทุก ๆ สองปี ความหนาแน่นของทรานซิสเตอร์ที่สูงขึ้น ส่งผลให้ชิปมีขนาดเล็กลง หรือมีประสิทธิภาพการประมวลผลที่รวดเร็วขึ้นในขนาดชิปที่เท่าเดิม เหอได้นำเสนอกฎใหม่ที่มีชื่อว่า กฎการปรับขนาดทาว หรือ กฎของเหอ ซึ่งระบุว่า แทนที่จะมุ่งเน้นการปรับแต่งเพื่อลดขนาดพื้นที่ แต่นักออกแบบจะหันมาปรับแต่งเพื่อลดเวลาที่องค์ประกอบต่าง ๆ บนชิปใช้ในการสื่อสารระหว่างกันแทน