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荷蘭政府出手阻止部分先進光刻機向中國出口。根據陸媒《第一財經》報導，荷蘭光刻機製造商艾司摩爾 ( ASML ) 在 1 日晚間於官網發布聲明，表示 NXT:2050i 與 NXT:2100i 兩款光刻機系統被荷蘭政府臨時撤銷出口許可，荷蘭政府的這個決定會影響艾司摩爾對部分中國客戶發送設備。
根據艾司摩爾官方網站顯示，該公司目前主流的 DUV 光刻機系統產品有 3 種：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000Di 與 TWINSCAN NXT:2050Di。在 2024 年 1 月 1 日荷蘭對於出口管制的新規生效後，艾司摩爾僅能向中國出口 TWINSCAN NXT:1980Di 一款光刻機系統。 1980Di 的光刻機系統的單次曝光分辨率約為 38 奈米，使用 1980Di 的晶圓廠若是採用單次曝光的方法，僅能製造最小 38 奈米級的半導體。雖然可以透過多次曝光等手段去造出更小的半導體，但這也意味著製作手續會變得複雜，同時也會降低成品的良率，增加製造的成本。
根據艾司摩爾在官方網站發布的聲明表示，被撤銷出口許可並不會對該公司的營利造成太大的影響。受影響最大的中國地區也只會降低 10% ~ 15% 左右的營利能力。並表示，雖然受到限制法規的影響，但中國地區的需求仍然非常旺盛，預計在 2025 年會迎來一波更大的成長。
臨時撤銷出口許可這件事也代表著，荷蘭政府與美國政府聯手，限制並制裁中國的高端晶片製造能力。引發了中國愛國小粉紅的不滿，紛紛揚言中國早已遙遙領先，不需要向海外廠商購買設備即可製造高端先進半導體。
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