記者王正平∕高雄報導
國立中山大學物理系講座教授張鼎張獨創「超臨界流體低溫缺陷鈍化技術」，師生團隊成立奈盾科技公司，有望助攻半導體新技術突破良率瓶頸，不僅獲得科技部價創計畫補助，更吸引日本第一大半導體設備商東京威力與台灣友達青睞，成為東京威力在台灣唯一投資的新創公司。
張鼎張指出，超臨界流體是一種物質狀態，一般固體吸熱變液體，液體加熱變氣體，氣體再加壓超過臨界溫度及臨界壓力，物質將兼具液體與氣體的特性，就是超臨界流體。超臨界流體有較好的滲透性和較強的溶解力，廣泛應用於萃取技術，將其作為萃取劑，將原料中某些成分析出，常見包括萃取咖啡因，製造保養品、營養補充品與清潔劑等。
張鼎張強調，在半導體尺寸微縮的趨勢下，長完膜、蝕刻後，可能會有很多缺陷，舊有技術無法提供好的解決方案，超臨界流體既像氣體又像液體，具高反應性、高滲透性、低表面張力等三大優勢，運用在電子元件上可有效消除缺陷，讓元件性能與可靠度大幅提升。
張鼎張表示，「超臨界流體低溫缺陷鈍化技術很特別，一般高溫的製程我們只要二百度到三百度之間就可以搞定。」透過這項技術可修補半導體材料內的斷鍵，讓不好的元件回到正常特性，改善漏電及導通電流，滿足舊有製程無法滿足的需求，且對鰭式場效電晶體、光電元件甚至對第三代半導體都有效。
「至於成立公司，那是個意外！」張鼎張表示，原本「只是源自於科學探索的樂趣」，因為超臨界狀態的物理現象很特殊，充滿許多未知值得研究，我們在這個領域持續投入了十五年的時間，在科學探索的過程中也挖掘出工程應用的潛力，目前測試很多公司提供的樣本都有效果。
