台特化（4772）因半導體出貨動能活絡，去年第四季稅後淨利1.29億元，季增三成，EPS 0.9元，推升全年營收8.73億元，年增57.89％，淨利3.85億元，年成長147％，改寫新高，EPS 2.74元；董事會通過擬配發現金股利2元。
展望後市，台特化認為，隨AI及HPC帶動半導體需求增加，先進製程中薄膜沉積製程隨著線徑微縮，應用等級從過往矽甲烷朝矽乙烷邁進，在晶圓上將可做更多蝕刻電路，符合2奈米及以下之應用，預計未來矽乙烷將快速成長。
廣告（請繼續閱讀本文）
另台特化新產品無水氟化氫（AHF），為先進半導體製程中十分重要的乾式蝕刻與清潔特氣原料，主應用於晶圓沉積薄膜蝕刻與機台設備內矽類殘留晶體的清潔移除，今年首季起出貨，挹注營運動能。
台特化為半導體特殊氣體及半導體特用化學材料之專業廠商，主產品矽乙烷主要應用於化學氣相沉積（CVD）製程，為半導體產業進入先進製程時代的關鍵性材料。
台特化看好今年成長動能，新產品無水氟化氫（AHF）為先進半導體製程中非常重要的乾式蝕刻與清潔特氣原料，主要應用於晶圓沉積薄膜蝕刻與機台設備內矽類殘留晶體的清潔移除，今年展開出貨，矽乙烷也將隨下游半導體先進製程需求增加、高階記憶體客戶需求回升等因素帶動出貨成長，烘托營運添力推進。
廣告（請繼續閱讀本文）
分析師表示，伴隨台積電2奈米新產開出，台特化新產品無水氟化氫（AHF）及矽乙烷進入放量階段，預期今年特氣稼動率有望快速推升，AHF與矽乙烷業績貢獻將有雙位數成長空間。