文/楊喻斐
根據《財訊》雙週刊報導,隨著輝達AI伺服器GB200 NVL72即將量產出貨,液冷散熱的解決方案再度受到市場關注;近來在鴻海科技日以及2024年OCP全球高峰會上,從ODM(原廠委託設計代工)商、電源供應器廠再到散熱模組業者,均積極搶進液冷供應鏈,三方勢力將發展出全新的競合關係。
鴻海科技日於10月9日落幕,現場展示量產版GB200 NVL72產品,為目前最高階的AI伺服器;董事長劉揚偉喊話,鴻海是第一家量產出貨的組裝代工廠,一口氣亮相整組的機櫃、CDU(冷卻液分配系統)、QD(快接頭)、連接器、大電壓線纜等產品,成為科技日活動中人氣最旺的焦點。
能耗受重視 加速轉液冷
進入AI伺服器時代,1顆晶片的TDP(熱設計功耗)較通用型伺服器增加2~5倍以上,達到1000瓦等級;如今,輝達最新的GB200系列,其熱功耗倍增至2700瓦之多。若以整個機櫃來看,過去1個機櫃的熱功耗達20至50千瓦,可以採用氣冷解熱;但G200 NVL72機櫃的熱功耗高達130~140千瓦,必須採用液冷的方式才能有效解熱。
以每天家用的熱水器舉例,1台熱功耗僅700瓦,而整機櫃的AI伺服器布滿的水線總長高達數公里,以水溫大概20~25度進入系統,GB200晶片的熱功耗高達2700瓦,帶出來的水溫達60~70度,就能想像有多熱了。
如果熱能無法有效排除,就會出現當機、故障等情況,這也就說明,為什麼散熱設計變得愈來愈重要。因此,研究機構集邦科技預估,隨著GB200機櫃方案正式放量出貨,將帶動液冷散熱的滲透率,從今年11%提升至2025年的24%,並以水對氣的方式為主流。
《財訊》雙週刊指出,集邦科技也預估,輝達Blackwell平台今年占高階GPU伺服器晶片的出貨比重約4%,Hopper平台占比95%。進入2025年之後,Blackwell將取代Hopper成為出貨主流,占比大幅提升至84%。由此可知,氣冷轉向液冷的趨勢將於明年更加顯著。
集邦科技分析師邱珮雯指出,不只是AI伺服器的耗能提升、帶動液冷散熱的需求,各國政府對於能耗的議題也更加重視。
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