就在 20 日南韓三星宣布新 7 奈米極紫外光刻（EUV）製程產線量產之後，三星副會長李在鎔進一步在視察該公司時明確表示，將持續推動三星在 2030 年成為非記憶體的邏輯半導體龍頭計畫。
根據南韓媒體《BusinessKorea》報導，三星電子指出，李在鎔於 20 日參觀了該工廠新的 7 奈米 EUV 生產線後，與部門高層逕行了相關會議。會議中，李在鎔指示旗下包括半導體和顯示器兩大重要產品線的三星設備解決方案部門（DS）高層，要持續推動三星在 2030 年成為全球龍頭的計畫，這也顯示出李在鎔勢在必得的決心。
報導指出，20 日首條內含（EUV）技術的 7 奈米晶圓生產線 V1，於 2018 年 2 月動工，投資約 60 億美元，若未來全線建成，預計總投資將達到 20 兆韓圜 (約 178 億美元)。 而在三星表示，V1 產線的意義，包含了紫外光線（Ultra Violet）和勝利（Victory）之意，未來也將針對市場需求，適時額外投資。
報導還進一步指出，三星電子研判，未來掌握 EUV 技術對拉近與龍頭台積電的差距至關重要。因為利用短波紫外線光源在晶圓雕刻半導體電路，與之前 ArF 方法相比，先進的技術可以製造出更精細的電路，並適用於 10 奈米以下的超精細製程中，是製備高性能、低功耗半導體的關鍵，也是未來的市場需求。
三星 V1 的 7 奈米產線除了生產 7 奈米晶片，還預計延續發展 5 奈米和 3 奈米製程。自 2020 年 2 月初量產的 7 奈米製程產品，將在 3 月交付客戶。李在鎔對員工表示，「去年我們播下了成為系統半導體龍頭的目標的種子，今天我們率先實現了目標。｣
（首圖來源：三星）
