破冰之作！俄羅斯首台光刻機面世　料生產350納米晶片

外媒報道，俄羅斯首台光刻機已經面世，並正進行測試。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長Vasily Shpak指，該設備可確保生產350納米的晶片。「我們組裝並製造第一台國產光刻機。作為澤廖諾格勒(Zelenograd，莫斯科郊外衛星城)技術生產線的一部分，目前正對其進行測試。」

在全球，這種複雜程度的設備由幾家主要公司組裝，其中由荷蘭ASML公司主導，另外還有日本的佳能(Canon)和尼康(Nikon)。目前，台積電及三星(Samsung)利用ASML的EUV(極紫外光)光刻技術，已經能夠生產精細至3納米，甚至2納米的晶片。雖然350納米的晶片技術相較之下顯得落後，但它在汽車、能源和電訊等諸多行業中仍有應用價值。

對於受到西方嚴厲制裁的俄羅斯半導體產業而言，這一進展無疑是一則喜訊。這意味俄羅斯在自主發展半導體技術的道路上取得突破，有望減少對外部技術的依賴，提升國內產業的自主性和競爭力。

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