美中科技戰延燒，荷蘭半導體微影設備廠艾司摩爾（ASML）表示，目前用於先進製程的極紫外光（EUV）光刻機仍未獲得荷蘭政府許可出口中國，導致中國最大晶圓代工廠中芯國際至今無法生產高階晶片，與台積電競爭差距將更大。
據外媒報導 ASML 總裁 Peter Wennink 發言，公司仍未獲准向中國出口極紫外光光刻機，且認為中國不太可能獨立自主研發出頂尖的技術與設備，因為公司當前的技術根基是透過不斷創新，以及整合非中國供應商才能提供的零組，打造出最先進的設備。
業內人士認為因美國施壓，所以荷蘭政府拒授予 ASML 出口先進光刻機系統的許可證。而基於艾司摩爾在相關設備的獨占地位，中國無法向其採購最先進設備，切斷中芯國際等中國頂尖半導體製造商研製高階晶片的道路。
有分析師指，若沒有 ASML 最先進光刻機，估計中國至少需要 10 年才能自主製造類似的機器製造出高階晶片。
資料來源： Reuters — unwire.hk Mewe 專頁： https://mewe.com/p/unwirehk
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